寬離子束研磨介紹

寬離子束研磨利用離子化氬氣轟擊樣品，并從樣品中物理濺射原子。在橫截面中進(jìn)行切割(也稱(chēng)為斜面切割)時(shí)，如這里所示，碳化鎢掩模位于離子束和樣品之間，用于定義橫截面的位置，并保護(hù)樣品的前表面。如果操作得當(dāng)，無(wú)論樣品材料的性質(zhì)或成分如何，斜面切割過(guò)程都會(huì)產(chǎn)生原始橫截面。

電子顯微鏡分析用鋰電池的分步制備

在本應(yīng)用注意事項(xiàng)中，機(jī)械制備和寬離子束研磨相結(jié)合，用于制備電池系統(tǒng)的兩個(gè)組件——鋰鎳錳鈷氧化物/鋁 (Li-NMC/Al) 電極和鉛 (Pb) 板柵。對(duì)于兩種樣品，機(jī)械制備和離子研磨遵循相似的方案。使用徠卡顯微系統(tǒng) EM TXP 靶表面處理系統(tǒng)進(jìn)行機(jī)械制備，這是一種高精度的臺(tái)式設(shè)備，可用于鋸、磨、拋光和碾磨樣品，并可進(jìn)行原位樣品觀察。在徠卡 EM TIC3X 寬離子束研磨系統(tǒng)上進(jìn)行離子研磨，以獲得最終的原始橫截面。

圖 1：EM TXP 機(jī)械制備系統(tǒng)(左)和 EM TIC3X 寬離子束研磨機(jī)(右)。

制備方案

Li-MNC 極片材料和鉛柵板這兩個(gè)樣本都使用雙組分環(huán)氧樹(shù)脂安裝在載玻片之間，然后固定在徠卡 TIC3X 樣品架上，再使用 TXP 制備。將樣品固定在載玻片之間為樣品提供了額外支撐，也不必將樣品完全包埋在環(huán)氧樹(shù)脂等其他固定材料中。這也減少了需要削洗和拋光的表面積，并使樣品在整個(gè)工作流程中都安裝在單個(gè)樣品托上。

a、機(jī)械制備

然后將樣品安裝在 TXP 夾頭上，并使用金剛石研磨箔在 TXP 上研磨至 9 微米光潔度。然后將樣品傾斜至 60° 角，并使用 400 粒度的碳化硅砂紙?jiān)谡�面載玻片上磨出斜面。這從橫截面表面移除了多余的玻璃，減少了離子研磨器工作量，因此加快了離子研磨過(guò)程并增加了產(chǎn)量。制備時(shí)間大約 20 分鐘。

b、用三離子束研磨儀進(jìn)行研磨

然后將樣品托直接安裝在 TIC3X 適配器上，用于室溫下斜面切割標(biāo)準(zhǔn)階段中的離子研磨。每個(gè)樣品在 8 kV 下研磨。Li-MNC 電極的研磨時(shí)間是 3 小時(shí)，鉛柵板是 6 小時(shí)。樣品尺寸不同導(dǎo)致研磨時(shí)間有差異。

掃描電鏡分析

圖 1 和 2 展示了 Li-MNC 電極樣品的SEM圖像。圖 1 顯示了該樣品完整的層級(jí)堆疊，包括用于安裝樣品的兩片玻璃和電極的氧化物/金屬夾層結(jié)構(gòu)。圖 2 顯示了感興趣的樣品材料更高倍數(shù)的放大圖像。這些圖像中樣品光滑無(wú)缺的表面體現(xiàn)出卓越的制備品質(zhì)。這些結(jié)果可用于確定電極材料中的顆粒尺寸和分布。此外，可以對(duì)整個(gè)電極樣品以及各層進(jìn)行精確的厚度測(cè)定。同樣令人感興趣的是結(jié)構(gòu)中央位于多孔膜和金屬膜之間的界面。這些圖像顯示了金屬膜如何與多孔層的紋理保持一致(用紅色箭頭表示)，如果結(jié)構(gòu)中存在分層，也可以從這些圖像中看出。

圖 2：Li-NMC 電極完整樣品的 SEM 圖像展示了位于結(jié)構(gòu)中央的兩個(gè)多孔層和金屬膜。

圖 3：Li-MNC 電極結(jié)構(gòu)更高放大倍數(shù)的 SEM 圖像。

適用于多色報(bào)告線成像的顯微技術(shù)

圖 3 顯示了鉛柵板樣品的 SEM 圖像。從這些圖像中可以觀察到高質(zhì)量的橫截面。樣品表面處于原始狀態(tài)，鉛柵板的顆粒結(jié)構(gòu)清晰可見(jiàn)，沒(méi)有任何額外的蝕刻。從這個(gè)樣品中，可以分析粒度和定位，雖然沒(méi)有在該樣品上拍攝到，但是這種處理質(zhì)量通常適合于電子背散射衍射 (EBSD) 分析。在這些圖像中，我們可以清楚地看到粒度變化很大的區(qū)域——有些區(qū)域的晶粒相當(dāng)粗，有些區(qū)域的晶粒結(jié)構(gòu)非常細(xì)。晶界也很容易看到。

圖 4：鉛柵板樣品的低倍放大(左)和高倍放大(右) SEM 圖像。

樣品由東賓夕法尼亞制造公司提供。樣本制備和圖像由 JH 技術(shù)公司的 Jerome Pons 提供。

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EM TIC 3X三離子束切割儀

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