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                                當(dāng)前位置 > 首頁 > 技術(shù)文章 > 粉末工程的革命之粉末型原子層沉積(PALD)設(shè)備選型

                                粉末工程的革命之粉末型原子層沉積(PALD)設(shè)備選型

                                瀏覽次數(shù):2137 發(fā)布日期:2021-8-20  來源:https://www.phenom-china.com/blog/details.aspx?id=200

                                粉末技術(shù)經(jīng)過多年的發(fā)展,已經(jīng)形成多樣化的制備及加工技術(shù)。其中,表面包覆技術(shù)作為提升粉末物理化學(xué)性能的重要手段,長期一來一直缺乏有效的精密手段。傳統(tǒng)的液相包覆或氣相包覆手段都無法實現(xiàn)均勻以及厚度的精密控制,限制了包覆技術(shù)的進一步發(fā)展。原子層沉積技術(shù)(ALD)是一種自限制性的化學(xué)氣相沉積手段,通過將目標(biāo)反應(yīng)拆解為若干個半反應(yīng),實現(xiàn)表面涂層的原子層級厚度控制。利用該技術(shù)制備的涂層具有:共形,無針孔,均勻的特點,對于復(fù)雜的表面界面以及高縱深比樣品有較好的沉積效果。
                                 

                                各類包覆技術(shù)對于涂層厚度控制以及適用的顆粒粒徑范圍
                                 

                                ALD 技術(shù)制備的薄膜更均勻(左:溶膠凝膠法;右:ALD)


                                平面 ALD 與 PALD(粉末)設(shè)備的區(qū)別
                                平面 ALD 技術(shù)自上世紀(jì)九十年代被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)以來,其工藝開發(fā)愈發(fā)成熟,形成了多樣化的 ALD 技術(shù)。一直以來,使用 ALD 技術(shù)實現(xiàn)粉末的包覆都是行業(yè)難題,粉末材料超高的比表面積決定了前驅(qū)體的使用量會幾何級增加,每個循環(huán)的時間更長,因此前驅(qū)體注入系統(tǒng)需要實現(xiàn)大批量前驅(qū)體的精準(zhǔn)注入,這對腔室設(shè)計有較高的要求。而平面 ALD 設(shè)備的腔室設(shè)計主要是為了促進前驅(qū)體的擴散,提高工藝效率,因此腔室盡可能設(shè)計的更小,這不利于粉末樣品與前驅(qū)體的接觸。
                                 

                                平面 ALD(a),粉末流化床(b),粉末旋轉(zhuǎn)床(c)


                                ALD 技術(shù)可以適用從納米到毫米級的粉末,實現(xiàn)從單原子層到納米級的涂層包覆,是一種理想的包覆手段。在經(jīng)過科學(xué)家的不懈努力后,用于粉末材料的 ALD 包覆技術(shù)也日漸成熟。目前商業(yè)化的實現(xiàn)方案包括:流化床,旋轉(zhuǎn)床,振動床。通過原子層沉積技術(shù)實現(xiàn)高質(zhì)量粉末包覆(PALD)【點擊查看詳細信息🔎】,并且已經(jīng)發(fā)展出可實現(xiàn)噸級處理量的工業(yè)化包覆技術(shù)。

                                使用平面 ALD 進行粉末處理時會導(dǎo)致質(zhì)量較差的包覆效果


                                這種精度極高的包覆技術(shù)已經(jīng)被證明可用于多種組分以及納米結(jié)構(gòu)的制備,配合刻蝕還可進行復(fù)雜結(jié)構(gòu)的制備。包括:單原子 / 團簇催化劑,鋰電材料表面包覆,藥物制劑流動性改善,金屬粉末表面鈍化,以及選擇性原子層沉積等。
                                 

                                ALD 技術(shù)已被驗證可制備無機以及有機的涂層


                                理想的粉末分散技術(shù)包括:流化床,旋轉(zhuǎn)床以及振動床技術(shù)。通過粉末的分散,避免因為物理團聚或燒結(jié)引起包覆效果不佳。Forge Nano 則是全球唯可提供多種粉末包覆方案實驗室到工業(yè)量產(chǎn)解決方案的供應(yīng)商。自 2013 年成立以來,F(xiàn)orge Nano 已經(jīng)具備有自主知識產(chǎn)權(quán)的專業(yè)化設(shè)備方案,可實現(xiàn)從毫克到千噸級的粉末包覆處理量;谠訉映练e技術(shù)的粉末包覆需要成熟的工藝,前期的研發(fā)十分重要,F(xiàn)orge Nano 推出兩款用于研發(fā)的 ALD 工具,可幫助使用者快速進行包覆工藝的研究。
                                 

                                設(shè)備型號:P 系列流化床 PALD 系統(tǒng)
                                 


                                推薦指數(shù):★★★★★
                                功能特點:采用流化床反應(yīng)腔,專為粉末 ALD 設(shè)計,可實現(xiàn)粉末材料的均勻包覆
                                適用領(lǐng)域:鋰電電極材料,負載型催化劑,藥物制劑,金屬粉末等
                                腔室:1g—5kg,可更換腔室
                                前驅(qū)體通道:2-8(最多 4 路低蒸汽壓前驅(qū)體通道)

                                P 系列 ALD 系統(tǒng)是專為粉末包覆設(shè)計的一款研發(fā)級工具,流化床技術(shù)是實現(xiàn)粉末分散和前驅(qū)體反應(yīng)的理想方式。對于致力于進行工業(yè)級量產(chǎn)的粉末材料,可以將經(jīng) P 系列研發(fā)級流化床系統(tǒng)驗證過的包覆工藝進行放大,擴展到工業(yè)生產(chǎn)規(guī)模。

                                設(shè)備型號:Pandora 多功能原子層沉積系統(tǒng)
                                 

                                推薦指數(shù):★★★★★
                                功能特點:采用旋轉(zhuǎn)床反應(yīng)器,粉末在重力與離心力的共同作用下實現(xiàn)分散。通過精確的前驅(qū)體注入,實現(xiàn)高效的利用以及均勻的包覆效果。
                                適用領(lǐng)域:粉末類樣品,平面類樣品(已通過 cGMP 認(rèn)證)
                                腔室:100ml
                                前驅(qū)體通道:3-6

                                使用操作簡單,兼容性強,適合在前期快速開展粉末包覆和平面樣品薄膜沉積的研究。

                                Forge Nano 工業(yè)化放大方案
                                原子層沉積技術(shù)由于反應(yīng)自身的特性,受限于產(chǎn)量與成本,一直以來難以實現(xiàn)工業(yè)化的應(yīng)用。Forge Nano 基于空間原子層沉積技術(shù),實現(xiàn)連續(xù)化生產(chǎn),增加了粉末的處理量。

                                流化床技術(shù)路線
                                經(jīng)過 P 系列驗證的工藝,可以通過與 Forge Nano 合作進行放大生產(chǎn),最高可實現(xiàn)每日噸級的處理量。這一方式可以極大地減少粉末包覆的處理成本(<$1/kg,每日處理量噸級)。
                                 

                                 

                                旋轉(zhuǎn)床技術(shù)路線
                                旋轉(zhuǎn)床技術(shù)對于產(chǎn)量要求不高或者部分較難流化的粉體的包覆有較大優(yōu)勢。Forge Nano 的 Lithos 可提供批次最高 5 噸的包覆處理量。
                                 


                                 

                                振動床技術(shù)
                                振動床可實現(xiàn)真正的連續(xù)化生產(chǎn),粉末在軸帶上不斷運動,完成每小時 100-4000kg 的粉末處理量;诳臻g原子層沉積技術(shù),可實現(xiàn)運動速度,振動頻率的調(diào)整。
                                 

                                應(yīng)用領(lǐng)域

                                1. 催化
                                Forge Nano 與美國國家再生能源實驗室,阿貢實驗室合作,開發(fā)新一代催化劑材料。通過 ALD 技術(shù),實現(xiàn) Pd / Al2O3 催化劑更高的穩(wěn)定性,在高溫條件下,可避免催化劑的燒結(jié),從而使實現(xiàn)穩(wěn)定的芳烴氫化反應(yīng) [1]。
                                 

                                TiO2 的包覆促進催化劑的穩(wěn)定
                                 

                                在另一項同樣來自美國國家可再生能源實驗室的研究中,使用高通量的 ALD 技術(shù)構(gòu)筑 Pt 催化劑涂層,可實現(xiàn) Ni / Co 納米線材料的高效催化,并防止金屬元素浸出損耗 [2]

                                 

                                納米線的催化劑涂層促進高效催化

                                 

                                2. 動力電池電極材料包覆
                                以鋰離子電池為代表的電池材料,在充放電時存在容量不可逆轉(zhuǎn)的下降,甚至引起安全事故。對電極材料的包覆處理是從源頭改善電池性能的重要手段。通過包覆常規(guī)的氧化物、以及鈦 / 鋁的有機雜化涂層,可以明顯提升電池的電化學(xué)性能,并提升其安全性。

                                 

                                  

                                ALD 包覆后的高壓性能有明顯提升,同時其熱失控風(fēng)險降低

                                 

                                3. 粉末冶金
                                粉末冶金利用粉末材料鑄造型材,這對粉末材料的流動性和分散性有較高的要求。在粉末熔融的過程中,團聚顆粒以及天然氧化層中的雜質(zhì)對于最終型材的質(zhì)量會有較大影響。通過 ALD 技術(shù)進行粉末包覆后,材料的抗侵蝕,耐潮性,流動性有明顯改善,同時涂層成分的變化還可以賦予粉末功能,如改變其反射率,親水性等,擴大應(yīng)用場景 [3]。

                                 

                                ALD 包覆對于粉末性能的改善

                                 

                                4. 制藥
                                藥物粉末尤其是 API,通常為無定形或水合物狀態(tài),極易發(fā)生團聚。通過 ALD 包覆,可有效改善其分散系和流動性,這對于吸入式藥物制劑的研發(fā)有重要的促進作用。藥物親水性的調(diào)控對其在人體體液中的釋放有積極意義,而 ALD 只需幾個周期的涂層就可實現(xiàn)不同親水性或親油性的樣品包覆。

                                 

                                 

                                此外,對于部分熱敏感的藥物,通過 ALD 包覆可以提升其熱穩(wěn)定性,防止其發(fā)生熱解,。一項合作研究表明,將經(jīng)過 ALD 包覆處理的 HPV 疫苗用于單次給藥實驗,實現(xiàn)了小鼠體內(nèi)更為持久的抗原反應(yīng) [4]。
                                 

                                ALD 包覆后的疫苗擁有更高的熱穩(wěn)定性和更持久的藥效

                                參考文獻

                                [1] McNeary W W, Tacey S A, Lahti G D, et al. Atomic Layer Deposition with TiO2 for Enhanced Reactivity and Stability of Aromatic Hydrogenation Catalysts[J]. ACS Catalysis, 2021, 11: 8538-8549.

                                [2] Alia S M, Neyerlin K C, Hurst K, et al. Advances in Ptni Nanowire Extended Thin Film Electrocatalysts[C]//ECS Meeting Abstracts. IOP Publishing, 2018 (44): 1505.

                                [3] Miller J, Gillespie C, Chesser J, et al. Surface modification of organic powders for enhanced rheology via atomic layer deposition[J]. Advanced Powder Technology, 2020, 31(6): 2521-2529.

                                [4] Garcea R L, Meinerz N M, Dong M, et al. Single-administration, thermostable human papillomavirus vaccines prepared with atomic layer deposition technology[J]. npj Vaccines, 2020, 5(1): 1-8.


                                來源:復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司
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                                標(biāo)簽: 原子層沉積 ALD 粉末包覆
                                用戶名: 密碼: 匿名 快速注冊 忘記密碼
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