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研究進展:熒光成像分析的雙光子直寫離焦主動補償方法

瀏覽次數(shù):174 發(fā)布日期:2024-12-16  來源:本站 僅供參考,謝絕轉(zhuǎn)載,否則責(zé)任自負

激光雙光子聚合直寫(TPP-LDW)是利用材料對激光的雙光子效應(yīng)引發(fā)的光聚合反應(yīng)實現(xiàn)的制造技術(shù),具有高精度、無掩模、立體制造、多樣化定制等諸多優(yōu)點。在過去的20多年中,TPP-LDW技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于微納光學(xué)、光子晶體、超材料、光存儲、片上互聯(lián)等眾多領(lǐng)域,是目前微納米增材制造的重要手段之一。

在利用TPP-LDW技術(shù)的加工中,體素的橫向線寬通常為百nm量級,軸向線寬一般為橫向的2至3倍。在這樣的尺寸條件下,物鏡焦平面與加工平臺之間輕微的夾角就可能導(dǎo)致在大范圍加工時出現(xiàn)結(jié)構(gòu)剝落、變形,以及傾倒等問題,因此在利用TPP-LDW技術(shù)的加工中需要避免焦點離焦。

西北大學(xué)光子學(xué)與光子技術(shù)研究所白晉濤團隊提出一種熒光成像分析的TPP-LDW焦點主動補償方法。實驗結(jié)果證明提出的焦點主動補償方法,有效地解決了焦平面與基底平面間傾角造成的離焦問題,該方法的補償精度達到了幾十nm量級;此外,基于該方法加工的尺度漸變微納結(jié)構(gòu)最小特征尺寸達到了10nm量級,為TPP-LDW加工特殊形貌復(fù)雜結(jié)構(gòu)提供了一種可供選擇的方案。

實驗方法
一、實驗裝置
◆ TPP-LDW加工裝置
采用800nm波段寬調(diào)諧鈦寶石飛秒激光器,光路經(jīng)機械開關(guān)MS控制,通過二向色鏡DM反射進入平場復(fù)消色物鏡OL會聚到光刻膠。

光刻膠由0.5%光引發(fā)劑7-二乙基氨基-3-噻吩甲酰基香豆素(DETC)與99.5%季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)單體配制DETC吸收光子產(chǎn)生熒光并引發(fā)光聚合。

采用6軸壓電納米平移臺(NPS)承載和移動樣品,另有570-579nm波段寬場照明光源SL,實驗中涉及單光子吸收體素SPA、雙光子吸收體素TPA。

◆ 焦點離焦機制
TPP-LDW加工理想狀態(tài)下體素與基底保持恒定位置,但實際因部件裝配等問題,焦平面與基底平面有誤差角。小范圍加工時誤差角可忽略,大范圍加工時則導(dǎo)致結(jié)構(gòu)形變,如焦平面與基底平面傾角為±5×10⁻³rad時,體素在平臺移動后會脫離或沉入基底。

二、基于熒光成像分析的離焦主動補償原理
◆ 誤差角分析與可行性判斷
納米平移臺裝配誤差及樣品受力變形是造成誤差角的主因,納米平移臺剛性好,樣品基底剛性也較好,樣品固定后誤差角固定,可通過算法預(yù)補償。但不同批次加工中,樣品與焦平面誤差角不同。

◆ 熒光信號變化判斷焦點位置
光刻膠-基底界面處熒光信號有快速變化特點。激光焦點在基底中時無熒光信號,接觸光刻膠時出現(xiàn)弱信號并隨焦點深入快速增長,完全進入光刻膠后信號基本穩(wěn)定。

實驗中控制納米平移臺高度采集熒光圖像,通過分析圖像灰度值方差變化曲線(如在origin至-524nm段及-820nm至-3μm段變化平緩,-524nm至-820nm段陡峭)可精準判斷激光焦點與界面相對位置,從而計算出傾斜角。

◆ 熒光圖像處理與補償計算
對熒光圖像進行處理,采用二維離散傅里葉變換頻譜處理、理想帶阻濾波器濾除噪聲、快速傅里葉逆變換轉(zhuǎn)換為Gradient模式灰度圖,再用Canny邊緣檢測算法降噪與檢測邊緣特征,確定加工焦點位置。

當(dāng)加工焦點位于基底與光刻膠分界面時,記錄平移臺位置,移動至加工范圍極限位置并微調(diào)z軸使邊緣檢測圖樣匹配,計算z軸移動高度,根據(jù)三角函數(shù)得出焦平面與基底平面夾角,通過坐標系間的旋轉(zhuǎn)矩陣和平移映射重構(gòu)加工路徑,計算各軸運動速度實現(xiàn)補償。

實驗結(jié)果

一、大面積微納米線結(jié)構(gòu)陣列加工
入瞳處飛秒激光功率8.04mW,按補償方法得出位置與速度補償值。激光焦點處于特定狀態(tài)時,將基底降低使焦點進入光刻膠,以20μm/s速度加工140μm×140μm微納米線陣列,線間距5μm。

加工結(jié)果SEM圖像顯示結(jié)構(gòu)完整,無剝落、變形和丟失。通過原子力顯微鏡(AFM)掃描,同一采樣區(qū)域結(jié)構(gòu)高度基本一致,平均高度276.4nm,標準差約23.0nm,不同區(qū)域高度有差異,推斷校準后激光焦平面與基底平面夾角約4.62×10⁻⁴rad,補償精度較高,但因人為判斷熒光圖樣形貌會引入一定誤差,后續(xù)可優(yōu)化焦點位置判斷依據(jù)

二、大范圍尺度漸變結(jié)構(gòu)加工
◆ 調(diào)控焦點軸向位置實現(xiàn)尺度漸變
入瞳處飛秒激光功率5.64mW,預(yù)設(shè)速度20μm/s,焦點軸向起始位置為進入光刻膠0.600μm處。加工時調(diào)節(jié)平臺使焦點高度變化,前半段升高平臺使焦點沉入基底,后半段降低平臺使焦點重新進入光刻膠,下一條線加工時提高預(yù)設(shè)路徑中心高度。

結(jié)果顯示納米線針尖結(jié)構(gòu)線寬隨平臺抬升高度增加而非線性減小,如針尖線寬平均值由475nm減小到275nm。

◆ 焦點位置與加工速度調(diào)控實現(xiàn)尺度漸變雙針結(jié)構(gòu)
入瞳處飛秒激光功率5.64mW,焦點軸向起始位置為進入光刻膠0.800μm處,初始雙針結(jié)構(gòu)加工速度130μm/s,速度變化10μm/s,平臺抬升高度從0.518μm變化至0.544μm。

加工的雙頂針結(jié)構(gòu)納米線中心高度從36nm降至12nm,中心最窄半峰全寬從0.145μm減至0.079μm。

三、大范圍復(fù)雜漸變結(jié)構(gòu)加工
入瞳處飛秒激光功率6.39mW,從結(jié)構(gòu)內(nèi)部起始點以20μm/s合速度放射狀加工復(fù)雜圖形,激光焦點相對于基底下沉8nm,每個加工特征點相對上一點有特定夾角。

加工出漸變周期性拓撲結(jié)構(gòu),線寬從初始461nm減小至275nm。通過自動計算/控制軟件可實現(xiàn)快速自動加工,此類結(jié)構(gòu)在微納流體和生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域有應(yīng)用潛力。

研究總結(jié)
提出了利用熒光圖像分析與空間路徑坐標映射而實現(xiàn)雙光子加工穩(wěn)定追焦與自動補償?shù)姆椒,在不引入(yún)⒖脊馐、調(diào)平傳感器、四象限探測器以及變焦系統(tǒng)的前提下,將大范圍加工時的軸向誤差從μm量級降低至數(shù)十nm量級,解決了微小傾斜角導(dǎo)致的微納結(jié)構(gòu)加工隨著加工范圍增大而產(chǎn)生缺陷與塌陷的問題,傾角修正精度達到4.62×10-4rad。在預(yù)期300nm高度的大面積微納米線陣列加工中,大面積線結(jié)構(gòu)陣列加工中補償精度標準差達到23nm。

同時,該方案可通過調(diào)控焦點在z軸方向上的位置來調(diào)控微納米結(jié)構(gòu)的三維形貌,實現(xiàn)的對頂雙針結(jié)構(gòu)的最小高度為12nm、最小線寬為79nm。

此外,基于自動計算/控制軟件可以實現(xiàn)大范圍的復(fù)雜漸變納米結(jié)構(gòu)的快速自動加工。提出的TPP-LDW加工離焦自動補償方法具有簡單易行、不需要額外引入?yún)⒖脊夂蛷?fù)雜的標定的優(yōu)點,且避免了焦點的單一軸向補償引起的結(jié)構(gòu)失真,具有一定的應(yīng)用與推廣價值。

聲明:本文僅用作學(xué)術(shù)目的。文章來源于:徐晨曦, 劉一寧, 王怡潔, 張琛, 趙偉, 陸寶樂, 王凱歌, 白晉濤. 基于熒光成像分析的雙光子直寫離焦主動補償方法(特邀)[J]. 中國激光, 2024, 51(12): 1202420. 

來源:羅輯技術(shù)(武漢)有限公司
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