人們進行細胞的培養(yǎng)、研究百年以來，傳統(tǒng)的培養(yǎng)箱和手套箱幾十年來都沒有突破性變革。現(xiàn)在，一種全新設備可集操作和培養(yǎng)細胞于一體，還帶有各種條件控制和自凈化功能。Xvivo System X3活細胞工作站是第一個旨在超越人們的普通需求，并專門解決細胞高級需求的系統(tǒng)，給細胞還原最真實的生理/病理環(huán)境，助力每一位使用的科研先鋒取得更可靠的成果。
那么它長什么樣子，都有哪些功能呢，都能如何搭配呢？

1. 山東中醫(yī)藥大學
Xvivo System X3
2.山東第一醫(yī)科大學
Xvivo System X3
3.西安985、211高校
Xvivo System X3
顯微鏡觀察操作面板。
加配顯微鏡專用觀察操作面板，細胞不用離開生長環(huán)境，直接在工作站內(nèi)部完成顯微觀察。
4層細胞培養(yǎng)Chamber
可集成多個獨立的高性能O2/CO2/CO/NO培養(yǎng)Chamber，不限數(shù)量以及任何尺寸的組合，每個Chamber都有自己獨立的氣體環(huán)境。
細胞操作面板，搭配軟密封手套
人員操作舒適，視野開闊，操作區(qū)與培養(yǎng)區(qū)分離，不易污染。
細胞緩沖傳遞倉
緩沖室是隔離系統(tǒng)不同部分的直通通道，保證細胞即使在被傳遞過程中，也能在正確的氣體環(huán)境中。緩沖室中無菌處理，確保細胞在傳遞過程中從始至終不會暴露于空氣中。傳遞倉和主操作間之間設置內(nèi)側門，阻斷主操作間與傳遞腔的互通，保護在開啟傳遞腔門的同時，主操作間的內(nèi)部環(huán)境不受打擾。
溫度及氣體控制器
這一部分包括P130溫度控制器、ProOx120二氧化碳控制器和ProOx360氧氣控制器。氣體控制O2（0.1-99.9%,精度0.1%） , C02（0.1-20%,精度0.1%）
自定義腔室模塊
模塊化的相互連接的細胞室可用將各種設備添加到系統(tǒng)中。不僅包括顯微鏡、細胞計數(shù)儀，更能適配HolominitorM4激光全息細胞成像系統(tǒng)，細胞處理后實時檢測生長，記錄細胞增殖、遷移、凋亡數(shù)據(jù)。在這些設備內(nèi)的處理過程中，細胞能保持在最佳狀態(tài)并具備無菌條件，與外界的環(huán)境隔離。
動態(tài)編程氣體控制系統(tǒng)
Xvivo System X3除了能適用精密靜態(tài)單點氣體控制器外，更能搭配動態(tài)編程氣體控制系統(tǒng)，獨特的雙通道/雙氣體控制器。可獨立控制每個培養(yǎng)chamber,各自獨立編程提供最佳的氧氣(0.1-99.9%)和二氧化(0.1-20%)控制，無論急性低/高氧，間歇性低氧，它都能通過電腦軟件，可預編程和存儲不同的氣體濃度升降位點、持續(xù)時間以及循環(huán)次數(shù)，實時記錄和存儲氣體濃度等數(shù)據(jù)。
超大容量細胞培養(yǎng)Chamber，給細胞一個家。
選配指南

研究領域	細胞研究
癌癥/腫瘤生物學	C21+C-Chamber / Xvivo System
干細胞研究	C21 / C42 + C-Chamber / Xvivo System
高原或航天研究	C21 / C42 + C-Chamber
眼科學研究	C21+C-Chamber / Xvivo System
心血管研究	C21 / C42 + C-Chamber / Xvivo System
睡眠-呼吸暫停 或間歇性缺氧	C42+C-Chamber/Xvivo System
腦與神經(jīng)研究	C21 / C42 + C-Chamber
血液學研究	C21 + C-Chamber / Xvivo System
免疫研究	C21 / C42 + C-Chamber / Xvivo System
肺研究	C21+C-Chamber
生殖發(fā)育研究	C21 + C-Chamber / Xvivo System
組織工程	C21 / C42 + C-Chamber / Xvivo System
腎臟研究	C21+C-Chamber
消化及內(nèi)分泌研究	C21 +C-Chamber / Xvivo System
生物節(jié)律研究	C21 + C-Chamber / Xvivo System

 
每一個Xvivo System X3，都能根據(jù)具體需求由您自主搭配控制器、培養(yǎng)室和附加功能模塊，真正滿足：以細胞為中心設計，結構簡潔，功能強大。
•高效清潔HEPA系統(tǒng)每小時不低于30次換風，流速不低于2.8立方米/分鐘
•雙模式無菌環(huán)境，雙區(qū)控溫，培養(yǎng)區(qū)與操作區(qū)互不干擾
•氣相溫度控制：室溫40°C
•工作臺溫度控制：室溫40°C
•標配備4層隔板獨立小型培養(yǎng)箱，氧氣濃度設置0.1%-99.9%
可選整合控制功能
溫度監(jiān)測，濕度限控制，濕度監(jiān)測，CO2濃度范圍（0-20% ） ， 02范圍（0.1-99.9%），壓力監(jiān)測，氣相溫度控制裝置，工作臺面加熱等。
 
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