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                                當(dāng)前位置 > 首頁 > 技術(shù)文章 > 微流控芯片使用方法及使用前后清洗步驟

                                微流控芯片使用方法及使用前后清洗步驟

                                瀏覽次數(shù):1412 發(fā)布日期:2023-11-6  來源:本站 僅供參考,謝絕轉(zhuǎn)載,否則責(zé)任自負(fù)
                                芯片名稱
                                NEXSTAR C3
                                采用處方BNT空白LNP處方測試,測試條件為1:3,總流速4ml/min,總體積為10ml,粒徑和PDI能保持一致。
                                NEXSTAR C4
                                采用處方BNT空白LNP處方測試,測試條件為1:3,總流速12ml/min,總體積為10ml,粒徑和PDI能保持一致。
                                NEXSTAR C5
                                采用處方BNT空白LNP處方測試,測試條件為1:3,總流速20ml/min,總體積為10ml,粒徑和PDI能保持一致。
                                NEXSTAR C10
                                采用處方BNT空白LNP處方測試,測試條件為1:3,總流速30ml/min,總體積為10ml,粒徑和PDI能保持一致。

                                使用次數(shù)說明
                                無限次數(shù)

                                最高流速(雙孔道總流速)
                                芯片名稱 總流速 制備時(shí)配比
                                (泵1和泵2)
                                清洗時(shí)配比
                                (泵1和泵2)
                                NEXSTAR C3 4ml/min 1ml/min和3ml/min 2ml/min和2ml/min
                                NEXSTAR C4 12ml/min 3ml/min和9ml/min 6ml/min和6ml/min
                                NEXSTAR C5 20ml/min 5ml/min和15ml/min 10ml/min和10ml/min
                                NEXSTAR C10 40ml/min 10ml/min和30ml/min 20ml/min和20ml/min
                                備注:不建議超過總流速,否則注射器可能會(huì)變形,影響兩相比
                                 
                                客戶常見問題 解決方式
                                芯片漏液 更換注射器
                                芯片堵塞 使用前后及時(shí)清洗/拆開清潔
                                建議樣品和清洗液要通過孔徑5um以下的濾膜過濾

                                使用步驟
                                1. 將芯片以入液口向內(nèi)的方式放在芯片架凹陷處;

                                 
                                 
                                2. 在芯片上方蓋上擋板及手?jǐn)Q螺絲,并擰緊
                                 
                                控制界面

                                 
                                NEXSTAR C4芯片
                                BD 5ml注射器

                                芯片除酶除熱原流程
                                試劑:無水乙醇,
                                0.5MNaOH 溶液,
                                無水乙醇, 
                                DEPC 水

                                一、芯片使用前清洗(以NEXSTAR C4為例)
                                1. 無水乙醇清洗
                                用 2 支 5ml 注射器各取 5ml 無水乙醇
                                在觸摸屏上設(shè)置兩相體積均為5ml,流速 6:6(單位:ml/min),
                                取 50ml 離心管掛上機(jī)器的收集管卡槽
                                點(diǎn)擊軟件運(yùn)行。
                                 
                                2. 0.5MNaOH 溶液清洗
                                用 2 支 5ml 注射器,
                                各取 0.5MNaOH 溶液,
                                重復(fù)上述操作條件清洗。
                                清洗后靜置 1小時(shí)。
                                 
                                3. 殘余液體排空
                                用 2 支 5ml 注射器,
                                抽滿空氣,
                                插入芯片,
                                重復(fù)上述操作條件排空。
                                 
                                4. DEPC水
                                用2支5ml注射器各抽取DEPC水5ml,
                                軟件設(shè)置(兩相比例=1:1,總體積10ml,流速 6:6,單位:ml/min),
                                清洗1次,排空殘余液體。

                                二、不同批次樣品間清洗
                                無水乙醇水清洗→DEPC 水清洗次→殘余液體排空 

                                三、使用后清洗
                                用2支5ml注射器各抽取無水乙醇5ml,
                                軟件設(shè)置(兩相比例=1:1,總體積10ml,流速 6:6,單位:ml/min),
                                清洗1次,用堵頭堵住進(jìn)出口,保持酒精充滿狀態(tài)。

                                注意:溶液的抽取體積應(yīng)大于軟件設(shè)置體積。
                                來源:納智達(dá)(上海)納米技術(shù)有限公司
                                聯(lián)系電話:0512-65126837
                                E-mail:judy@nexstarbio.com

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