應用需求
Ø 設備材料，包括金屬（例如Ti，Co-Cr）和聚合物（例如UHMWPE，PEEK），必須進行適當?shù)那鍧�，準備和紋理化處理（微觀和/或宏觀），以促進廣泛涂層的牢固粘合
Ø 在許多應用中，單層表面涂層對于在最少使用涂料的情況下獲得高度可控的薄膜至關(guān)重要。這樣的涂層可用于改變表面疏水性或可用作附加涂層的附著的基礎，以實現(xiàn)更復雜的多層涂層或用于生物分子例如生物活性肽的附著。
Ø 保形的單層涂層應用，例如 通過嚴格的熱控制，使羥磷灰石（HA）保持最佳結(jié)晶度

行業(yè)
YES（Yield Engineering Systems）已成功部署了我們的VertaCure，EcoClean和EcoCoat系統(tǒng)以及相關(guān)技術(shù)，可為基因組學和生物技術(shù)領域的客戶，領先的研究機構(gòu)以及行業(yè)頂尖的技術(shù)孵化器提供高效的解決方案。應用包括制造DNA和蛋白質(zhì)微陣列以及微流體設備，這些設備需要修飾表面疏水性以及功能性生物分子的 均勻且穩(wěn)定的附著。下一代測序儀器依賴于精密制造的流通池，該流通池包含數(shù)百萬個微尺度位置，可作為DNA平行測序的點。此類流通池必須經(jīng)過精密涂覆，才能實現(xiàn)DNA引物的穩(wěn)定定位，或者必須能夠?qū)ι�物傳感器附近的納米孔結(jié)構(gòu)進行精確定位。 YES的基因組學行業(yè)客戶已成功地將我們基于等離子體的表面清潔和化學氣相沉積（CVD）驅(qū)動的表面涂層技術(shù)應用于嚴格質(zhì)量標準下的大批量測序流動池制造中。YES儀器和相關(guān)的工藝流程相結(jié)合，可實現(xiàn)高質(zhì)量的設備表面改性，同時最大程度地降低用于提供出色設備性能的化學鍍層成本。

YES產(chǎn)品
YES工程師是受控表面改性的專家，可為多個最終市場提供有效的制造解決方案，包括硅微處理器的制造，基因組測序和微流體流通池設備，醫(yī)療設備和生物傳感器以及其他高級表面涂層應用。 YES的解決方案提供了獨特的功能，可在微米和納米級上修飾表面，與其他涂層技術(shù)相比，具有較低的擁有成本，較小的占地面積和改善的環(huán)境影響。 提供可擴展的解決方案，以便可以將流程從臺式設備無縫轉(zhuǎn)移到大容量單元和支持自動加載的單元，以進行大批量制造（HVM）。

EcoCoat系統(tǒng)：用于化學氣相沉積，具有出色的重復性和精度。
Ø 精確的溫度控制（波動性<1％）可在整個腔室，涂層燒瓶和蒸汽管線中實現(xiàn)熱均勻性。 這樣可將接觸角均勻性提高2倍
Ø 涂層在層流下真空沉積，從而產(chǎn)生較溫和的操作條件，減少了污染顆粒的產(chǎn)生，并改善了表面性能（低應力，低翹曲和低脫氣）
Ø 專有技術(shù)控制液體注入的數(shù)量和速度，以及溫度控制和真空度，從而使涂層單層獲得高質(zhì)量的附著力
Ø YES過程比競爭產(chǎn)品快約3倍，擁有成本比競爭產(chǎn)品低2倍
Ø YES擁有沉積100多種前體的經(jīng)驗，包括烷基，氨基，環(huán)氧和氟化硅烷衍生物

EcoClean系統(tǒng)：通過溫和的分子水平清潔，自動的血漿剝離/除渣溶液系統(tǒng)。
Ø 獲得專利的ICP等離子體源和分配單元可產(chǎn)生緊密耦合到基板的高密度等離子體。 專有的水冷卻技術(shù)可帶來溫和的清潔效果，并提高了一致性，可提供兩倍的剝離速度，而無缺陷/損壞（10μm/ min，控制范圍低至100Å/ min）。
Ø 專有設計只有3個活動部件，因此具有很高的可靠性（正常運行時間> 95％）并降低了維護要求。 占〜50％的同類產(chǎn)品。
Ø 非常靈活的系統(tǒng)，經(jīng)證明具有受控的氧，氫和氟種類。

VertaCure固化系統(tǒng)：基于真空的低溫聚合物固化
Ø 專有的泵和吹掃循環(huán)以及雙O形圈確保將低氧本底保持在10 ppm以下。 專有設計采用主動加熱和冷卻功能，以實現(xiàn)可變的斜升和斜降。
Ø 與其他方法相比，循環(huán)時間縮短了50％，溫度均勻性提高了2倍，并且應力和除氣量低。