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EPMA-8050G電子探針顯微分析儀
英文名稱:EPMA-8050G總訪問:2786
國(guó)產(chǎn)/進(jìn)口:進(jìn)口半年訪問:1
產(chǎn)地/品牌:日本/島津產(chǎn)品類別:電子顯微鏡
型       號(hào):EPMA-8050G 最后更新:2020-10-30
貨       號(hào):
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“The Grand EPMA” 誕生

搭載最尖端場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng) 
將島津EPMA分析性能發(fā)揮到極致

從SEM觀察條件到1μA量級(jí),在各種束流條件下都擁有無與倫比卓越空間分辨率的尖端場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀,將分析性能發(fā)揮至極致。

當(dāng)之無愧的“The Grand EPMA” ,最高水準(zhǔn)的EPMA誕生!

實(shí)現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的先進(jìn)技術(shù)

1 高亮度肖特基發(fā)射體 
場(chǎng)發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大,輸出更高。即可以保持其高亮度,還可提供高靈敏度分析不可缺少的穩(wěn)定大電流。

2  EPMA專用電子光學(xué)系統(tǒng) 
電子光學(xué)系統(tǒng),聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè),交叉點(diǎn)不是靠聚光透鏡形成,而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上,具有獨(dú)立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點(diǎn)的(日本專利:第4595778號(hào))。簡(jiǎn)單的透鏡結(jié)構(gòu),既能獲得大束流,同時(shí)全部電流條件下設(shè)定最合適的打開角度,將電子束壓縮到最細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。

3 超高真空排氣系統(tǒng) 
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級(jí)差動(dòng)排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小,以控制流入中間室的氣體,使電子槍室始終保持著超高真空,確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

4 高靈敏度X射線譜儀 
最多可同時(shí)搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號(hào)的空間分辨率的同時(shí),又可減小樣品對(duì)X射線的吸收,實(shí)現(xiàn)高靈敏度的分析。

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